金子健太郎フェローが第23回船井学術賞を受賞しました

金子健太郎フェローが 第23回(2023年度)船井学術賞を受賞しました。受賞テーマは「新しい酸化物半導体の開拓とパワー半導体応用」です。2009年から始まった船井学術賞の受賞は、立命館大学で初めてとなります。

本賞は、情報科学、情報技術分野を中心に広く理工系分野において、顕著な研究業績のあった若手研究者に褒賞を授与し、わが国の科学技術に関する研究の向上、発展に寄与することを目的としています。

〇金子フェローのコメント

これまでの研究活動が評価された事を大変嬉しく思います。合成が困難であった酸化イリジウムの薄膜成長を何とか達成し、そのp型伝導を測定器によって確認した時は0時を過ぎた真夜中で、飛び上がるほど嬉しかった事を覚えています。そして、研究室PIとして初めて取り組んだテーマである二酸化ゲルマニウムの合成は、酸化イリジウムよりも困難をきわめましたが、当時の学生たちが諦めずによくついてきてくれました。特に二酸化ゲルマニウムは、当時の研究室予算のほとんどを投入して合成実験を行いました。この2つの新材料は私の研究者人生の中でどん底にいる時に取り組んだもので特に思い入れが深いです。今後も研究者としてこのような新材料の研究に取り組んで参ります。

詳しくは以下のページをご覧ください。

立命館大学ウェブサイト

写真：2024年5月18日に行われた授賞式の様子 金子健太郎フェロー（写真右）